日照機械密封包括壓力控制、溫度控制、流體替換(堵塞)和雜質(zhì)去除系統(tǒng)。在日照機械密封系統(tǒng)中，上述系統(tǒng)并不同時包括在內(nèi)。密封系統(tǒng)的選擇主要取決于主密封件的應用范圍。例如，如果主密封用于高溫液體，密封系統(tǒng)應確保降低主密封的環(huán)境溫度，即采用溫度控制系統(tǒng)。如果主密封用于固體雜質(zhì)含量高的工作介質(zhì)，密封系統(tǒng)應確保在主密封前降低固體雜質(zhì)含量，即采用除雜系統(tǒng)。在腐蝕性介質(zhì)中，密封系統(tǒng)必須確保主密封降低腐蝕速率或消除腐蝕，即使用流體而不是堵塞流體系統(tǒng)；在高壓密封裝置中，輔助系統(tǒng)應確保多級降壓和其他措施，即壓力控制系統(tǒng)。

　　日照機械密封的三個主要功能如下：

　　1、沖洗功能，沖洗是日照機械密封基本的功能，它直接將液體注入單面密封或雙面密封的高壓側(cè)。一般的日照機械密封應該沖洗，特別是對于輕烴泵，沖洗時達到隔離介質(zhì)、冷卻和改善潤滑的目的。隔離介質(zhì)的目的可以通過將與介質(zhì)相容的液體引入密封腔進行外部循環(huán)沖洗來實現(xiàn)。

　　2、除雜和過濾功能，密封流體中的微細固體粒子、污垢等雜質(zhì)對日照機械密封造成的危害非常嚴重，可能導致密封端面的磨損，也可能堵塞寒冷密封系統(tǒng)的管線。密封性系統(tǒng)軟件具有去除殘渣、保持液體清潔的作用。當殘渣的相對密度小于液體媒質(zhì)相對密度時，能用過濾裝置去除殘渣；而當殘渣的相對密度超過液體媒質(zhì)相對密度時，可選用旋液分離設(shè)備或網(wǎng)式過濾器去除殘渣。

　　3、流體替代功能，含有固體顆粒的氣相介質(zhì)和液相介質(zhì)的直接密封難度很大，它們溫、毒、貴、易蒸發(fā)、易結(jié)晶。借助日照機械密封可以用雙端日照機械密封代替密封介質(zhì)，將難以直接密封的介質(zhì)轉(zhuǎn)化為密封潤滑性能好、清潔的密封液體介質(zhì)。